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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD
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德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD
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三维原子层沉积系统 ALD
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PICOSUN原子层沉积设备ALD
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
黄金阶段。进入21世纪,随着适应各种制备需求的商品化ALD仪器的研制成功,无论在基础研究还是实际应用方面,原子层沉积技术都受到人们越来越多的关注。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
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